- 助力芯片制造用光刻膠產品研發 上海新陽買下ASML二手光刻機一臺
- 2021年03月11日 來源：中國證券報·中證網
提要：上海新陽3月11日晚公告，近日，由子公司芯刻微委托盛吉盛代理投標，成功中標購得ASML XT1900 Gi型二手光刻機一臺，該設備可用于研發分辨率達28nm的高端光刻膠。后續公司將啟動設備的運輸及相關安裝調試等工作。
上海新陽3月11日晚公告，近日，由子公司芯刻微委托盛吉盛代理投標，成功中標購得ASML XT1900 Gi型二手光刻機一臺，該設備可用于研發分辨率達28nm的高端光刻膠。后續公司將啟動設備的運輸及相關安裝調試等工作。
盡管公告并未透露上述二手光刻機的價格，但可以參考的是，2020年9月，同處半導體材料領域的晶瑞股份計劃斥資1102.5萬美元購買ASML的光刻機設備。晶瑞股份后面披露的公告顯示，該光刻機為ASML XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機。
這也不是上海新陽第一次購買ASML的光刻機。公司3月8日公告稱，自立項開發193nmArF干法光刻膠的研發及產業化項目以來，安排購買了ASML-1400光刻機等核心設備。該光刻機原計劃2020年底前運抵國內，但由于公司與光刻機供應商、合作方溝通協調設備運輸與安裝等細節，致使設備沒能在規定時間內運達，預計于2021年3月底前進入合作方現場。
上海新陽表示，公司作為國內集成電路制造關鍵工藝材料供應商，將突破集成電路高端光刻膠國外壟斷，實現集成電路高端光刻膠材料的國產化作為發展目標，在ArF干法、KrF厚膜及I線光刻膠方面已有技術與產品的突破。
而且，通過子公司芯刻微開展的ArF濕法光刻膠項目研發也已引進了核心技術專家團隊，為ArF濕法光刻膠項目的開發提供了技術保障。現采購ASML浸沒式光刻機設備是對公司ArF濕法光刻膠技術先進性的設備保障，對加快公司集成電路制造用光刻膠產品研發項目進度有積極影響，有利于進一步提升公司光刻膠產品的核心競爭力，加速落實公司發展戰略，提高公司抗風險能力和可持續發展能力。
上海新陽強調，光刻膠產品在集成電路材料中技術難度大，質量要求最高，開發周期長，且核心技術及原材料幾乎被國外廠商所壟斷。因此，存在著研發失敗和研發計劃滯后的風險。
公告顯示，3月11日，芯刻微向盛吉盛支付10%首期貨款購入該光刻機，剩余款項在6個月內付清。
